pengaruh kecepatan spin coating terhadap kehomogenan film tipis

Titanium dioxide (TiO₂) merupakan bahan yang memiliki konstanta dielektrik tinggi. Salah satu manfaat dari bahan yang memiliki konstanta dielektrik tinggi yaitu dapat mencegah kebocoran arus.  Aplikasi di bidang elektronika yang menggunakan TiO₂ yaitu mikroelektronik diantaranya elektrokhromik, photokatalistik dan sensor. TiO₂ yang didoping dengan logam Fe, Nb, dan Ce dapat dimanfaatkan sebagai sensor gas ^[1,2,3,4]. Fabrikasi TiO₂ yang paling dasar untuk aplikasi tersebut adalah dalam bentuk film tipis. Fabrikasi film tipis pada saat ini memunginkan kegunaannya yang begitu luas, mengingat sifat-sifat bahan dari film tipis dapat dimodifikasi sesuai dengan divais yang diinginkan.

Sekarang ini banyak metode yang digunakan dalam penumbuhan film tipis antara lain Chemical Vapor Deposition (CVD), Pulse Laser Ablation Deposition (PLAD), Solution Gelation (Sol-Gel), Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) dan Sputtering^[5-6]. Salah satu metode yang memiliki kontrol baik pada stokiometri, mudah dibuat dan dapat dilakukan pada suhu kamar adalah metode CVD. Metode yang termasuk dalam metode CVD yang sering digunakan yaitu metode spin coating. Spin coating merupakan metode penumbuhan film tipis pada substrat dengan cara meneteskan cairan kemudian diputar dengan kecepatan konstan^[7].

Spin coating dapat digunakan untuk menumbuhkan film tipis dielektrik dengan kualitas yang baik dan murah. Kualitas film tipis yang ditumbuhkan dengan metode ini sangat peka terhadap parameter fabrikasi yang digunakan, antara lain pelarut, substrat dan temperatur annealing^[8]. Namun hasil sebaran larutan film tipis sebagian tidak merata pada semua bagian substrat sehingga ketebalannya juga berbeda-beda akibat dari perputaran pada saat meneteskan cairan pada substrat. Oleh karena itu perlu dicari kecepatan putaran (ω) spin coating untuk menghasilkan sebaran film tipis yang merata.

Metode pengukuran sebaran ketebalan film tipis yang sering digunakan sekarang ini yaitu Ellipsometri, Reflectance Spectroscopy, Scanning Electron Microscopy (SEM) dan Interferometer Michelson. Metode yang digunakan pada penelitian ini adalah interferometer Michelson karena biaya yang cukup murah dan mudah penggunaannya daripada metode lainnya^[9]. menggunakan prinsip dasar interferensi pembagi amplitudo.  Hasil dari interferometer Michelson berupa pola gelap terang. Dari pola gelap terang tersebut diperoleh informasi tentang sebaran ketebalan film tipis.

Fabrikasi film tipis TiO2doping Fe menggunakan metode spin coating. Film tipis dibuat dengan memvariasikan kecepatan putaran spin coating untuk mendapatkan sebaran film yang merata. Penentuan sebaran film tipis dalam penelitian ini menggunakan Interferometer Michelson.


klik disini untuk mendownload jurnal proposal penelitian "pengaruh kecepatan spin coating terhadap kehomogenan ketebalan film tipis TiO2 doping Fe. lalu pilih berkas --> unggah file